超純水又稱UP水,既將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ·cm,或接近18.3MΩ·cm極限值。
超純水主要應用于微電子行業(yè)、半導體行業(yè)、電力行業(yè)、光電行業(yè)、光伏行業(yè)和實驗室以及其他超純水應用領域。
二、純化水和超純水的區(qū)別
(1)電導率不同,純化水電導率在1-5μS/cm 之間,超純水的電導率為0.056μS/cm;
(2)制造的難易程度不同,目前市場上使用的純水基本上都是經(jīng)過反滲透、蒸餾等方法制得,而超純水是純水的基礎上還要經(jīng)過光氧化技術、精處置和拋光處理等一系列復雜的純化技術制得的;
(3)對微量元素的要求不同。比如重金屬、細菌、微粒數(shù)等指標也大不相同,純水雜質(zhì)含量是ppm 級,而超純水為ppb 級1ppb為1ppm的千分之一,簡單來講超純水中已經(jīng)沒有什么雜質(zhì),接近于理論上的水;
(4)使用的領域也不相同,純水一般稱呼純凈水,基本不保留水中的礦物質(zhì),pH值在6-7之間,為弱酸性,一般用于透析等醫(yī)療用水,或者實驗室、電子化工等特殊用水;
(5)對輸送管道材質(zhì)的要求也不相同,超純水對輸送管道材質(zhì)的要求要比純水嚴格得多。
三、超純水的水質(zhì)標準
(1)《國家標準:電子級水(GB/T 11446.1-2013)》,
將電子級用水劃分為4級EW1-4,對用水的電導、全硅、微顆粒數(shù)、細菌個數(shù)、金屬元素、理化指標及TOC都有明確要求。例如EW1電阻率≥18MΩ·cm(25℃)的情況下,全硅≤2μg/L等等。
(2) 美國電子和半導體工業(yè)用超純水的標準指南(ASTM-D5127)
美國電子和半導體工業(yè)用超純水的標準指南(ASTM-D5127),將電子和半導體工業(yè)用超純水劃分為7級,相較于國標電子級用水,美標對水質(zhì)的劃分更加細更加嚴格。 標準指南中增加了對半導體有影響的金屬元素、及溶解氧的檢測。
四、常用的水處理工藝
如圖一所示,針對不同的水質(zhì)要求,可采用不同的處理技術,凝聚沉淀、砂過濾、活性炭吸附、以及筒式過濾這四種工藝技術可以去除水中的懸浮物和微粒;反滲透技術可以有效去除有機物、離子、微粒微生物、熱源;離子交換技術可以除去水中的離子;紫外線殺菌可以去除微生物和有機物;膜濾和超濾可以除卻原水中的微生物和熱源;多效蒸餾可以去除水中的有機物和熱源。通過一系列的技術可以使得原水變成超純水,用于工業(yè)車間生產(chǎn)用水。
圖二 工藝用水處理技術
超純水主流工藝為三種,分別為:
(1)多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→單級RO→再生混床→拋光混床
(2)多介質(zhì)過濾器→軟化器→活性炭過濾器→單級RO→EDI→拋光混床
(3)疊片式過濾器→超濾→雙級RO→EDI→拋光混床→終端超濾
相對來說另外兩種工藝來講,第一種工藝是比較老舊的超純水制作手法,而最后一種滲透/電去離子(RO/EDI)集成膜技術是近年來發(fā)展迅速、相對成熟并得到大規(guī)模工業(yè)應用的新一代超純水制造技術,在國際上已逐漸成為純水技術的主流。RO/EDI的集成膜技術在電子企業(yè)用水、實驗室純水系統(tǒng)、電廠用水等方面具有獨特的優(yōu)勢。
五、應用案例
案例一:某企業(yè)定制超純水設備,應用于電子行業(yè)
(1)工藝類型和水質(zhì)要求
采用預處理+雙級RO+EDI工藝,產(chǎn)水水質(zhì)符合電子級水標準。
(2)技術指標
圖四 技術指標
(3)BTD設備特點
一鍵式啟動、操作、維護簡單方便,設有就地控制柜,方便就地操作及維護;系統(tǒng)主機一體化設計,模塊化安裝,減少占地面積。
案例二:某企業(yè)定制超純水設備,應用于環(huán)保新能源行業(yè)
圖五 BTD超純水設備
(1)工藝類型和水質(zhì)要求
采用預處理+雙級RO工藝,產(chǎn)水水質(zhì)符合電子級水標準。
(2)技術指標
圖六 技術指標
(3)設備特點
系統(tǒng)可同時產(chǎn)水及獨立產(chǎn)水一用一備,分為兩套獨立設備,耗材更換時不需停水,可24小時運行。
案例三:某企業(yè)定制超純水設備,應用于光電行業(yè)
(1)工藝類型和水質(zhì)要求
采用BTD預處理+雙級RO+EDI+拋光混床工藝,產(chǎn)水水質(zhì)符合電子級水標準。
(2)技術指標
圖八 技術指標
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